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三星3nm工厂即将动工:全球首发GAA工艺 功耗直降50%

2022-03-10 08:39
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萌萌Gia妈
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三星的晶圆代工部门最近表现不佳。据报道,一些员工涉嫌伪造和谎报5nm、4nm和3nm工艺的产量,因此高通等VIP客户不得不离开并重新使用台积电生产小龙8处理器。

然而,从技术上讲,三星仍然是唯一能赶上台积电的晶圆厂。虽然三星在7Nm、5nm和4nm节点上落后,但在下一个3nm节点上更激进。它希望推出全球砷化镓晶体管工艺,放弃FinFET晶体管技术,而台积电的3nm工艺仍将基于FinFET工艺。

三星此前表示,砷化镓是一种新型的环绕栅晶体管。Mbcfet(多桥沟道fet)是利用纳米芯片设备制造的。该技术可以显著提高晶体管性能,主要取代FinFET晶体管技术。

据三星称,与7Nm制造工艺相比,3nmGAA工艺的逻辑面积效率提高了45%以上,功耗降低了50%,性能提高了约35%。在纸张参数方面,它优于台积电的3nmFinFET工艺。

三星3nm工厂即将动工:全球首发GAA工艺 功耗直降50%

当然,这些都还在纸上。三星的3nm工艺有很多挑战。大规模生产本身就是一个问题。三星在2021公布了大规模生产。事实上,事实并非如此。今年也是最快的一年。此外,3gae低功耗工艺是第一个,高性能3gap工艺将至少在2023年。

据韩国媒体报道,三星已准备在韩国平泽市P3工厂开工建设3nm晶圆厂。施工将于6月和7月开始,设备将及时进口。

根据这一进展,今年的3gae工艺应该只是小规模试生产,而大规模量产将在明年进行,类似于台积电的3nm工艺。由于各种问题,两家公司都推迟了3nm工艺的批量生产。

三星3nm工厂即将动工:全球首发GAA工艺 功耗直降50%
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