1月19日的最新消息，Intel宣布她是第一个订购ASMLTWINSCAN的人EXE:5200光刻机器。
双扫描EXE:5200它是ASML的高Na（数字孔径）EUV光刻机，每小时的吞吐量超过220个晶圆（WPH）。
根据路线图，EXE:5200它预计最早将于2024年底投入使用，2025年将大规模应用NicholasTse芯片的生产。
事实上，四年前，ASML的第一代高Na（0.55Na）光刻机行政长官：5000，Intel是第一家下订单的公司。然而，目前的7Nm和5nm芯片不是由他们生产的，而是0.33naEUV光刻机。
与0.33na光刻机相比，0.55na的分辨率从13nm提升到8nm，可以更快更好地曝光更复杂的集成电路图案，突破了0.33na单组分32nm到30nm间距的限制。
预计第一代高钠光刻机EXE:5000它将首先用于3nm节点，如行政长官：5200，根据Intel的流程图，到2025年，它将至少是20A或18a，即5nm和5nm+。
早些时候，ASML发言人告诉媒体，更高的光刻分辨率将使芯片缩小1.7倍，密度增加2.9倍。在未来，比3nm更先进的工艺将严重依赖于高钠EUV光刻。
最后，我不得不说Intel可以赢得第一个订单。当然，除了与ASML密切合作外，这也是因为“钞票能力”。Gartner分析师AlanPriestley表示，0.55na下一代EUV光刻机的单价将翻一番，达到3亿美元（约合19亿元人民币）。
